Professor Tsumoru Shintake vom Okinawa Institute of Science and Technology (OIST) hat eine neue Art der extremen ultravioletten (EUV) Lithographie vorgeschlagen, die die herkömmliche Technologie übertrifft. Diese EUV-Lithographie basiert auf einem Design, das mit kleineren EUV-Lichtquellen arbeiten kann, was Kosten senkt und Zuverlässigkeit sowie Lebensdauer der Maschinen dramatisch verbessert.
Die Technologie löst zwei bisher als unüberwindbar geltende Probleme. Erstens ein neuartiges optisches Projektionssystem mit nur zwei Spiegeln und zweitens eine effiziente Methode zur direkten Ausrichtung von EUV-Licht auf Logikmuster auf einem flachen Spiegel (der Photomaske) ohne Beeinträchtigung des optischen Pfads.
Die herkömmliche EUV-Lithographie verbraucht viel Energie und ist teuer in Installation, Wartung und Stromverbrauch. Die von Prof. Shintake entwickelte Technologie reduziert den Energieverlust erheblich und ermöglicht eine effektivere Nutzung selbst kleinerer EUV-Lichtquellen.
Der Projektor der EUV-Lithographie besteht nur aus zwei reflektierenden Spiegeln, was im Vergleich zu herkömmlichen Systemen eine signifikante Reduzierung des Stromverbrauchs ermöglicht. Die innovative Beleuchtungsmethode des ‚Dual Line Field‘ minimiert Maskeneffekte und verbessert die räumliche Auflösung erheblich.
Die globale EUV-Lithographiemarkt wird bis 2030 voraussichtlich auf 17,4 Milliarden USD anwachsen. Die vorgestellte Zwei-Spiegel-Projektortechnologie verspricht eine kostengünstige und effiziente Lösung für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiter bei reduziertem Energieverbrauch.
